第十四届国际高压半导体物理会将于2010年8月1日-4日召开

       2010年8月1日-4日,第十四届国际高压半导体物理会 14th International Conference on High Pressure Semiconductor Physics (HPSP-14) 第十四届国际高压半导体物理会将于2010年8月1日-4日召开。国际半导体物理会议是国际应用物理联合会(IUPAP)半导体委员会组织的最重要的国际学术系列会议。自1950年首届会议开始举办以来,每两年举办一次,前20届会议均在欧洲、北美和日本召开,最近两次2006年和2008年分别在维也纳和巴西召开。2009年超硬材料国家重点实验室和中国科学院半导体超晶格国家重点实验室经过与多家学校和科研单位竞争,成功获得第十四届国际高压半导体物理会的举办权。届时来自美国、法国、德国、加拿大、丹麦、爱尔兰、日本、韩国、以色列、波兰、俄罗斯、新加坡、西班牙、英国等国家的近百名国际和国内高压半导体领域的专家和同学将参加此次会议。

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