名称:真空镀膜设备
厂家:日本SEKI
型号:AxTex-5250
启用日期:2003年5月
简介:
真空镀膜设备是利用波导管将微波源的能量传递到真空反应腔体形成等离子体,分解含碳气体沉积在衬底上形成金刚石的设备,可以生长大尺寸高质量金刚石单晶和光学级金刚石多晶膜。
附件配置:
红外测温仪,分子泵,水冷机
主要功能:
生长大尺寸高质量金刚石单晶及多晶膜
技术参数:
真空度1×10-4Pa,温度500oC-1500oC
地点:唐敖庆楼C区317室
联系人:王启亮
联系电话:0431-85168880
E-mail:wangqiliang@jlu.edu.cn